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行业知识
金刚新材料教您如何在较低烧结温度下制备高纯氧化铝陶瓷支撑体
编辑:金刚新材料股份有限公司   发布时间:2018-08-09

      多孔陶瓷膜由于具有优良的热稳定性、化学稳定性及易于清洗再生等优点而为广大学者所关注,目前在食品、医药、化工、冶金等领域得到广泛应用,特别是在水处理领域发挥重要作用。多孔陶瓷膜一般是由支撑体、过渡层及膜层三部分组成,其中支撑体是多孔陶瓷膜应用的基础,要求其具有足够的机械强度以及较高的渗透通量,以保证膜层在服役过程中的稳定性。商用陶瓷支撑体最常用的为氧化铝材质,所用氧化铝原料的粒径一般在20~40μm。对于99氧化铝陶瓷支撑体,为保证其具有足够机械强度,烧成温度一般为1700℃,甚至更高。因此如何降低氧化铝陶瓷支撑体的烧结温度,减少制备成本成为当前研究的重点。目前一般是引入合适的助烧剂(TiO2、高岭土等),通过固相或液相烧结方式来实现氧化铝陶瓷支撑体的低温制备。对氧化铝粉体表面进行修饰处理,以提高其烧结活性,也可以降低烧结温度。胡锦猛等采用0.5μm氧化铝对22μm氧化铝表面进行包覆处理,在1550℃保温2h,实现了氧化铝陶瓷支撑体的制备,其开口气孔率为34%,机械强度为34.2MPa。但是,如何在较低烧结温度下(<1500℃)实现高纯氧化铝陶瓷支撑体(Al2O3>99%)的制备却鲜见报道。
      以硫酸钛作前驱体,通过包覆工艺对氧化铝粉体表面进行修饰,实现了高纯氧化铝陶瓷支撑体在1400℃的制备(其中,引入二氧化钛质量为0.5%)。系统研究了包覆后氧化铝坯体的烧结特性,烧结温度对氧化铝陶瓷支撑体显微结构、孔径尺寸分布及基本性能的影响。


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